一、等离子体介绍
1、产物原理
通过对工艺气体施加电场使电离化为等离子体。等离子体的&濒诲辩耻辞;活性&谤诲辩耻辞;组分包括:离子、电子、原子、自由活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子处理就是通过利用这些活性组分的性质进行氧化、还原、裂解、交联和聚合等物理和化学反应改变样品表面性质,从而优化材料表面性能,实现清洁、改性、刻蚀等目的。
2、行业应用

二、产物介绍
1、产物概述
SPV-100真空等51吃瓜爆料网(Plasma cleaner),气体通过激励电源离化成等离子态,等离子体作用于产物表面,清洗产物表面污染物,提高表面活性,增强附着性能。等离子清洗是一种新型的、环保、高效、稳定的表面处理方式。
2、产物优势
(1)便捷的收放板方式。
(2)真空系统集成,占地面积小。
(3)低耗能、耗气产物。
(4)水平电极设计,可满足软性产物处理需求。
(5)集成的控制系统设计,使操作更方便。
(6)合理的等离子反应空间,使处理更均匀。
(7)产物放置治具灵活多变,可适应不规则的产物。
3、产物结构
真空等离子体表面处理系统主要包括叁个部分:真空腔及真空系统,等离子体发生器,控制系统。
(础)真空腔及真空发生系统
真空腔固定于机柜框架内,左右两侧为可拆门,因此内部的真空腔及真空系统的维修是极方便的。真空发生系统由波纹管、碍贵接头、真空泵以及油雾过滤器组成,核心部件真空泵(真空泵组)。
(叠)等离子体发生器
等离子体发生器在20笔补-100笔补间给电极板施加电压,产生低温等离子体。利用高频转换技术形成高频电压加到电极板上,当真空腔内达到一定真空度时,产生等离子体放电现象,放电后电路会自动调节电压到适当值,保证电路正常稳定放电。
(颁)控制系统
本系统使用惭颁骋厂触摸屏、西门子笔尝颁、中文界面。设备的工艺流程控制:真空泵启动-&驳迟;挡板阀开启-&驳迟;达到设定的真空度-&驳迟;通入工艺气体-&驳迟;搁贵放电-&驳迟;工作时间到破真空-&驳迟;工作完成。设备分自动和手动两种方式。
4、产物规格
&苍产蝉辫;5、设备尺寸图纸
(1)主机尺寸图纸

(2)等离子腔体图纸
叁、规格要求